书目详细信息
： 等离子体浸泡式离子注入与沉积技术
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 978-7-118-07892-3:CNY68.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 等离子体浸泡式离子注入与沉积技术/.汤宝寅， 王浪平编著 |
| 出版发行项： | 北京:,国防工业出版社:,2012.01 |
| 载体形态项： | xvii， 238页:;+图:;+24cm |
| 一般附注： | 本书由国防科技图书出版基金资助出版 |
| 提要文摘： | 本书介绍了用于材料表面改性的等离子体浸泡式离子注入与沉积（PIIID）技术。主要内容包括PIIID技术发展概况、基础理论、PIIID设备关键部件设计、PIIID鞘层动力学计算机理论数值模拟与应用以及机械零件的PIIID复合、批量处理工艺与应用等。本书也给出了PIIID技术最新进展与研究成果。本书涉及多门学科和技术，专业知识面宽广，内容系统全面，实用性强。 |
| 并列题名： | Plasma immersion ion implantation and deposition technique eng |
| 题名主题： | 工程材料 表面改性 |
| 中图分类： | TB3 |
| 中图分类： | TB3 |
| 个人名称等同： | 汤宝寅 编著 |
| 个人名称等同： | 王浪平 编著 |
| 记录来源： | CN 江苏新华 20131112 |
| 电子图书： | 阅读地址 |